Меню раздела

Лазерный пошаговый нанолитограф предназначен для экспонирования периодических микро- и наноструктур на фоточувствительные материалы (фоторезист, фотополимер, галоидные слои). На основе этих структур могут быть изготовлены нанооптические детали, включая голограммые оптические элементы (ГОЭ) и дифракционные оптические элементы (ДОЭ).

Технические параметры нанолитографа:

  • минимальный период формируемой решетки:
  • для длины волны 441,6 нм (He-Cd)………….140 нм
  • для длины волны 325 нм (He-Cd)……………100 нм
  • для длины волны 248 нм (KrF)………………...84 нм
  • для длины волны 193 нм (ArF)………………...60 нм
  • поле перемещений ……………………...100х100 мм
  • погрешность перемещений…………………...10 нм
  • увеличение проекционного микрообъектива………………….180 крат, 240 крат